スパトリートメント UVナノベース G

成分 : シクロペンタシロキサン、酸化亜鉛、水、酸化チタン、パルミチン酸エチルヘキシル、ＢＧ、フェニルトリメチコン、ジメチコン、ＰＥＧ／ＰＰＧ－１９／１９ジメチコン、グリセリン、メタクリル酸メチルクロスポリマー、トリメチルシロキシケイ酸、タルク、水酸化Ａｌ、イソステアリン酸、ＰＥＧ－９ポリジメチルシロキシエチルジメチコン、アロエベラ葉水、ライチー種子エキス、サトザクラ花エキス、イザヨイバラエキス、グリコシルトレハロース、加水分解水添デンプン、ヒアルロン酸Ｎａ、α－アルブチン、チャ葉エキス、ルイボスエキス、クララ根エキス、プルーン分解物、シャクヤク根エキス、カミツレ花エキス、ベニバナエキス、マグワ根皮エキス、ヒメフウロエキス、ハトムギ種子エキス、アーチチョーク葉エキス、アロエベラ葉エキス、シリカ、（ＨＤＩ／トリメチロールヘキシルラクトン）クロスポリマー、イソステアリン酸ポリグリセリル－２、塩化Ｎａ、（ベヘン酸／エイコサン二酸）グリセリル、ハイドロゲンジメチコン、レシチン、メチコン、アスコルビン酸、リンゴ酸、酸化鉄、フェノキシエタノール、エタノール